Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Lösemittel als Remover?
Alkalische Medien als Remover?
Hardbake bei sehr hohen Temperaturen?
Nach dem Beschichten (Sputtern, Aufdampfen, CVD)?
Nach dem Trockenätzen?
Quervernetzte Negativlacke?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
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 → Mögliche Ursache:
Im Prinzip gilt hier das gleiche wie im vorherigen Abschnitt beschrieben. Zusätzlich besteht beim Trockenätzen die Gefahr einer Redeposition geätzten Materials auf der Lackoberfläche, welches in Removern u. U. unlöslich ist und, evtl. unterstützt von Ultraschall, in entsprechenden Medien geätzt werden müsste.
Weiter führende Technische Infos:

 → Entfernen von Fotolacken
 → Lithografie-Forum Lithotalk