Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Lösemittel als Remover?
Alkalische Medien als Remover?
Hardbake bei sehr hohen Temperaturen?
Nach dem Beschichten (Sputtern, Aufdampfen, CVD)?
Nach dem Trockenätzen?
Quervernetzte Negativlacke?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Mögliche Ursache:
Das gelegentlich benutzte Aceton ist kein optimaler Remover, da es zum einen wegen des geringen Flammpunkts nicht erhitzt werden darf, zum anderen aufgrund seines hohen Dampfdrucks rasch verdunstet und dadurch Lackrückstände verursachen kann. Innerhalb der organischen Lösemittel empfiehlt sich NMP (N-Methyl-2-pyrrolidon) oder das ungiftige DMSO (Dimethylsulfoxid), welche beide bis 80°C erhitzt auch stärker quervernetzten Fotolack entfernen können. Ebenfalls empfohlen sind die NMP-freien und pH-neutralen Hochleistungs-Stripper TechniStrip P1316, P1331 und NI555.
Weiter führende Technische Infos:

 → Entfernen von Fotolacken
 → Lösemittel: Theorie und Anwendung
 → Lithografie-Forum Lithotalk