Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Ausreichende Rehydrierung?
Ausreichende Belichtungsdosis bei Positivlacken?
Kompatibler Entwickler?
Entwickler noch aktiv?
Entwickler zu stark verdünnt?
HMDS korrekt angewandt, oder Kontamination mit anderen Medien?
Thermische Zersetzung des Fotoinitiators?
Lackschichtdicke größer als erwartet?
Geänderte Substratreflektivität?
Bei Negativ- oder Umkehrlacken im Umkehrmodus?
Bei chemisch verstärkten Lacken?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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Impressum / Datenschutz

 → Geometrie des Spincoaters
 → Umgebungsbedingungen beim Aufschleudern
Die Verdunstungsrate des Lösemittels einer aufgeschleuderten Lackschicht und damit deren erzielte Dicke hängt neben der Temperatur und Luftfeuchtigkeit von der Lösemittelkonzentration der Atmosphäre in der Lackschleuder ab. Diese wiederum hängt davon ab, wann und wie viele Substrate seit der letzten Reinigung der Lackschleuder bereits belackt wurden. Aus diesem Grund kann es hinsichtlich konstanter Lackschichtdicken sinnvoll sein, vor einer Belackungsreihe einige Dummy-Wafer zu belacken.
 → Verringerter Lösemittelgehalt des Lacks
 → Überlagerter Lack?
Weiter führende Technische Infos:

 → Aufschleudern von Fotolack
 → Entwickeln von Fotolack
 → Lösemittel: Theorie und Anwendung
 → Lithografie-Forum Lithotalk