Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Verfärbung/Angriff durch den Fotolack?
Angriff durch Entwickler?
Angriff durch Remover?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
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 → Alkalische Remover?
 → Mögliche Ursache:
NMP ist im konzentrierten Zustand pH-neutral. Mit zunehmender Verdünnung mit Wasser steigt der pH-Wert und erreicht in Nähe einer 1 : 1 Verdünnung ein Maximum von ca. 10.5.
Weiter führende Technische Infos:

 → Entfernen von Fotolacken
 → Lagerung, Alterung, Umfüllung und Verdünnung von Fotolacken
 → Lithografie-Forum Lithotalk