Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Unzureichende Lackstabilität im Elektrolyten
Verunreinigung der Galvanik durch austretendes Restlösemittel?
Unerwünschtes Lackprofil
Die aufgewachsene Metallstruktur haftet nicht gut?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Saure Bäder?
Im sauren Medien mit Ausnahme stark oxidierender Medien wie Salpetersäure sind alle AZ® und TI Lacke ausreichend stabil für die Galvanik. Sollte es dennoch zu einem Angriff der Lackmasken kommen, könnten evtl. Zusätze organischer Lösemittel dafür verantwortlich sein.
 → Alkalische Bäder?
Weiter führende Technische Infos:

 → Galvanik mit Fotolack-Masken
 → Lösemittel: Theorie und Anwendung
 → Lithografie-Forum Lithotalk