Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Geeigneter Fotolack?
Gap zwischen Fotomaske und Lackoberseite?
Geeignete Softbake-Parameter?
Kompatibler und optimal angesetzter Entwickler?
Optimale Belichtungsdosis?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz
 → Bei Positivlacken
 → Bei Negativ- oder Umkehrlacken
 → Stark überbelichtet?
Bei zu hohen Lichtdosen können auch nominell dunkle Bereiche innerhalb der Fotolackschicht belichtet werden, welche dann im Falle von Positivlacken im Entwickler mit abgetragen werden oder im Falle von Negativ- oder Umkehrlacken die entwickelbaren Lackbereiche verkleinert. Beides setzt die erzielbare Auflösung herab und ist im Detail mit möglichen Ursachen in Abschnitt 40.6 auf Seite 190 erläutert.
Weiter führende Technische Infos:

 → Entwickeln von Fotolack
 → Hochauflösende Fotolack-Prozessierung
 → Prozessierung von Umkehrlacken
 → Lithografie-Forum Lithotalk