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Fotolack Prozessierung | Trouble-Shooting | Ätzchemikalien und Lösemittel | ![]() |
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| Fotolacke | Ancillaries | Lagerung, Handhabung, Alterung | Substratvorbehandlung und Belacken | Backprozesse | Belichten | Entwickeln | Beschichten + Lift-off | Ätzen und Strippen |
| Softbake (= Prebake) | Post Exposure Bake | Umkehrbackschritt | Hardbake |
| Bei Umkehrlacken macht dieser Backschritt die bei der ersten Belichtung belichteten Bereiche im Lack inert, weshalb diese (nach anschließender Flutbelichtung) im Entwickler stehen bleiben. Dieser Umkehrbackschritt ist sehr temperaturkritisch, da bei den hierfür typischerweise angewandten Temperaturen ein messbarer Anteil des Fotoinitiators zerfällt, was die Entwicklungsrate deutlich verringert. Für reproduzierbare Ergebnisse empfehlen wir deshalb für diesen Backschritt dringend die Verwendung einer Hotplate anstelle eines Ofens und eine Umkehrbacktemperatur gerade so hoch, dass der Dunkelabtrag im Entwickler ausreichend gering bleibt. |
Literatur zur Prozessierung von Umkehrlacken |
Backschritte für Fotolacke |
| MicroChemicals® - Alles zur Mikrostrukturierung mit kurzen Lieferzeiten auch als Kleingebinde:Fotolacke (Positivlacke, Umkehrlacke, Negativlacke, Dünnlacke,
Dicklacke, Schutzlacke ...) Hilfsstoffe ( Entwickler, Verdünner, Haftvermittler wie HMDS, Remover, Stripper ...) Ätzchemikalien (Säuren und fertige Ätzgemische wie Aluminiumätze, Chromätze, Goldätze und Siliziumätze) Lösemittel (Aceton, Isopropanol, MEK uvm. in VLSI und ULSI Qualität) |