Fotolack Prozessierung Trouble-Shooting Ätzchemikalien und Lösemittel
Fotolacke Ancillaries Lagerung, Handhabung, Alterung Substratvorbehandlung und Belacken Backprozesse Belichten Entwickeln Beschichten + Lift-off Ätzen und Strippen
Positiv, Image reversal, Negativ Chemische Beständigkeit Thermische Beständigkeit Optische Eigenschaften Lösemittel Harz Fotoinitiator

Die photoaktiven Substanzen der AZ® und TI Positivlacke und Umkehrlacke gehören zur Gruppe der DiazoNaphtoQuinone-(DNQ-)Sulfonate. Deren Anwesenheit im Fotolack reduziert - verglichen mit reinem Kresolharz - zunächst die Entwicklungsrate (alkalische Löslichkeit) um ein bis zwei Größenordnungen. Beim Belichten mit hinreichend kurzwelliger Strahlung (typisch:< 440 nm) wandelt sich das DNQ unter Stickstoffabspaltung und Wasseraufnahme in eine Karbonsäure um, wodurch sich die Entwicklungsrate der Photolacke um 3-4 Größenordnungen erhöht und zuletzt 1-2 Größenordnungen über der von reinem Kresolharz liegt.

Bei AZ® 2000 Negativlacken fehlt ein nach diesem Prinzip arbeitender Fotoinitiator. Hier initiiert die Belichtung eine Quervernetzung des Harzes.
Weiterführendes Dokument (pdf) Optische Absorptionskoeffizienten einiger Fotolacke  Die Fotoreaktion
MicroChemicals® - Alles zur Mikrostrukturierung mit kurzen Lieferzeiten auch als Kleingebinde:

Fotolacke (Positivlacke, Umkehrlacke, Negativlacke, Dünnlacke, Dicklacke, Schutzlacke ...)
Hilfsstoffe ( Entwickler, Verdünner, Haftvermittler wie HMDS, Remover, Stripper ...)
Ätzchemikalien (Säuren und fertige Ätzgemische wie Aluminiumätze, Chromätze, Goldätze und Siliziumätze)
Lösemittel (Aceton, Isopropanol, MEK uvm. in VLSI und ULSI Qualität)