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Fotolack Prozessierung | Trouble-Shooting | Ätzchemikalien und Lösemittel | ![]() |
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| Fotolacke | Ancillaries | Lagerung, Handhabung, Alterung | Substratvorbehandlung und Belacken | Backprozesse | Belichten | Entwickeln | Beschichten + Lift-off | Ätzen und Strippen |
| Positiv, Image reversal, Negativ | Chemische Beständigkeit | Thermische Beständigkeit | Optische Eigenschaften | Lösemittel | Harz | Fotoinitiator |
| Das Harz (engl.: resin) der AZ® und TI Photolacke ist Novolak, ein Kresolharz, welches aus Formaldehyd und Phenol polymerisiert wird. Die Kettenlänge bestimmt massgebliche Eigenschaften des Fotolacks: Eine hohe Kettenlänge erhöht die thermische Stabilität (Fließpunkt, Glastemperatur), reduziert den Dunkelabtrag aber auch die Entwicklungsrate belichteten Lacks. Kurze Ketten erhöhen die Haftung zum Substrat, weshalb Fotolacke je nach ihren gewünschten physikalischen und chemischen Eigenschaften als Harz ein Gemisch unterschiedlicher Kettenlängen (typisch: 8-20 Monomereinheiten) beinhalten können. |
| MicroChemicals® - Alles zur Mikrostrukturierung mit kurzen Lieferzeiten auch als Kleingebinde:Fotolacke (Positivlacke, Umkehrlacke, Negativlacke, Dünnlacke,
Dicklacke, Schutzlacke ...) Hilfsstoffe ( Entwickler, Verdünner, Haftvermittler wie HMDS, Remover, Stripper ...) Ätzchemikalien (Säuren und fertige Ätzgemische wie Aluminiumätze, Chromätze, Goldätze und Siliziumätze) Lösemittel (Aceton, Isopropanol, MEK uvm. in VLSI und ULSI Qualität) |