Fotolack Prozessierung Trouble-Shooting Ätzchemikalien und Lösemittel
Fotolacke Ancillaries Lagerung, Handhabung, Alterung Substratvorbehandlung und Belacken Backprozesse Belichten Entwickeln Beschichten + Lift-off Ätzen und Strippen
Positiv, Image reversal, Negativ Chemische Beständigkeit Thermische Beständigkeit Optische Eigenschaften Lösemittel Harz Fotoinitiator
Das Lösemittel fast aller AZ® und TI Photolacke ist PGMEA (2-Methoxy-1-methylethylacetat), welches auch als Verdünner unter dem Handelsnamen ‚AZ® EBR solvent‘ (früher ‚AZ® 1500 thinner‘) vertrieben wird. Je nach eingestellter Viskosität der Fotolacke bildet es mit 55-85% deren Hauptbestandteil.

Der hohe Siedepunkt von PGMEA (154°C) und geringe Dampfdruck (ca. 2 mbar bei Raumtemperatur) verhindert ein zu schnelles Verdampfen aus geöffneten Gebinden und beim Dispensieren. Es unterstützt so reproduzierbares und sicheres (Flammpunkt 42°C) Arbeiten. Es ist eines der wenigen Lösemittel, welches auch nach rel. hoher Verdünnung von Fotolack in diesem keine bzw. nur sehr verzögerte Partikelbildung verursacht.

Auf die Prozessierung des Fotolacks wirkt sich nach dem Softbake in der Lackschicht verbliebenes PGMEA in chemischer und physikalischer Hinsicht aus: Im Entwickler wandelt es sich u.a. in Essigsäure um und erhöht so die Entwicklungsrate (Dunkelabtrag). Bei nachfolgenden Aufdampf- oder Backschritten erniedrigt Restlösemittel den Fließpunkt und fördert ein Verrunden des Lackprofils.
 Softbake und Restlösemittel  Restlösemittel und Dunkelabtrag PGMEA und andere Lösemittel
MicroChemicals® - Alles zur Mikrostrukturierung mit kurzen Lieferzeiten auch als Kleingebinde:

Fotolacke (Positivlacke, Umkehrlacke, Negativlacke, Dünnlacke, Dicklacke, Schutzlacke ...)
Hilfsstoffe ( Entwickler, Verdünner, Haftvermittler wie HMDS, Remover, Stripper ...)
Ätzchemikalien (Säuren und fertige Ätzgemische wie Aluminiumätze, Chromätze, Goldätze und Siliziumätze)
Lösemittel (Aceton, Isopropanol, MEK uvm. in VLSI und ULSI Qualität)